? ? 第十一屆慕尼黑上海分析生化展于2023年7月13日在國家會展中心(上海)圓滿落下帷幕。 作為實驗室行業(yè)燈塔展會,本屆analytica China為行業(yè)奉上了一場技術(shù)與思考交流的盛會,洞悉新形勢,把握新機遇,共話新發(fā)展。

? ? 今年展會匯集1,273家參展企業(yè)和合作單位(2020年:1,121家)及56,864位專業(yè)觀眾共襄盛舉(2020年:23,652位)。八大展區(qū)近80,000平米總展示面積(2020年:60,000平米)上呈現(xiàn)了900+年度新品和新技術(shù)、創(chuàng)新技術(shù)及前沿解決方案。

? ? 本次展會，CIF新品等離子去膠機、RIE反應(yīng)離子刻蝕機橫空出世，吸引了眾多專家、行業(yè)人士的駐足，咨詢絡(luò)繹不絕。CIF推出等離子去膠機外觀大氣美觀，同時實用性強，引發(fā)了專家老師們的討論。采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。

? ? 同時還有一款產(chǎn)品也受到了專家老師們的喜愛，RIE反應(yīng)離子刻蝕機，采用RIE反應(yīng)離子誘導激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形進行RIE反應(yīng)離子刻蝕。

國產(chǎn)儀器凝聚“中國力量”,助力國潮崛起

? ?CIF始終堅持以客戶為中心，以市場為導向，本著技術(shù)引領(lǐng)、服務(wù)驅(qū)動的發(fā)展理念，積極響應(yīng)國家科學儀器“國產(chǎn)替代”相關(guān)政策，按照“產(chǎn)、學、研、用”及“專、精、特、新”的理念和要求，不斷擴大研發(fā)、制造投入，向全產(chǎn)業(yè)鏈智能制造發(fā)展。

? ?CIF希望通過自我的不斷強大，為我國在前沿科學技術(shù)及高端儀器設(shè)備研發(fā)等方面作出一份貢獻。